硅片清洗剂又称硅片清洗液、硅片表面清洗剂，指用于硅片表面清洗的化学制剂。硅片清洗剂需具备残留性低、材料兼容性好、去污能力强、化学稳定性好、绿色环保等特性，在光伏硅片以及半导体硅片清洗过程中应用较多。按照组份不同，硅片清洗剂可分为多组份硅片清洗剂、单组份硅片清洗剂以及双组份硅片清洗剂三种类型。
硅片清洗剂通常以酸碱调节剂、螯合剂、表面活性剂、有机溶剂、缓蚀剂、稳定剂以及消泡剂等为原材料制成。酸碱调节剂主要包括硫酸、氢氧化铵、盐酸以及氨水等，能够调节硅片清洗剂的pH值；螯合剂能够提升硅片清洗剂的悬浮性能、分散性能以及稳定性；表面活性剂能有效去除硅片表面残留杂质以及污染物，脂肪酸甲酯乙氧基化物（FMEE）以及烷基酚聚氧乙烯醚（NP）等非离子表面活性剂在其生产过程中应用较多。
硅片清洗剂主要用于光伏硅片以及半导体硅片清洗过程中。常见硅片清洗技术包括RCA清洗法、热态洗硅成膜剂法、HF/O3单片清洗法、高压喷射法、超声清洗法等。近年来，随着应用需求日益旺盛，我国硅片清洗技术不断进步，这将为硅片清洗剂行业发展带来机遇。
全球硅片清洗剂市场主要集中于欧美以及日本等国，代表企业包括美国陶氏化学公司（DOW）、德国巴斯夫股份公司（BASF）、日本信越化学工业株式会社（Shin-Etsu）、日本JSR株式会社等。在本土方面，与海外发达国家相比，我国硅片清洗剂行业起步较晚，市场参与者较少。我国硅片清洗剂主要生产商包括高特新材、佳元新材、晶洲装备、新化股份等。
高特新材专注于硅片切割液、硅片清洗剂的研发、生产及销售，为我国硅片清洗剂代表企业。目前，高特新材已与隆基绿能、华耀光电、弘元新材、华升新能源等知名半导体以及光伏企业达成合作，为其批量供应硅片清洗剂。
受益于我国光伏以及半导体行业发展速度加快，硅片清洗剂作为硅片表面清洁处理试剂，市场空间不断扩展。目前，受技术壁垒高等因素限制，全球硅片清洗剂市场被海外发达国家占据主导。预计未来一段时间，伴随技术进步，我国硅片清洗剂市场参与者数量将有所增长，届时其行业景气度将进一步提升。