电感耦合等离子体（ICP）刻蚀机是一种将射频电源的能量经由电感线圈，以磁场耦合的形式进入反应腔内部，从而产生等离子体并用于刻蚀的设备。
ICP刻蚀机具有结构简单、操作简便、刻蚀损伤小、刻蚀速率快、电场可独立控制、刻蚀表面性能好、选择比高、大面积刻蚀均匀性好等特点，适合于大面积基片刻蚀，目前其在二氧化硅、应变硅、碳化硅、多晶硅栅结构、III-V族化合物、金属导线、金属焊垫等材料刻蚀上已得到广泛应用。
根据等离子体源设计不同，ICP刻蚀机分为变压器耦合型等离子体（TCP）、去耦合型等离子体源（DPS）两大类。TCP型ICP刻蚀机由美国泛林半导体公司开发生产，DPS型ICP刻蚀机美国应用材料公司开发生产。
ICP刻蚀机可替代或部分替代电容性等离子体（CCP）蚀刻机、反应离子（RIE）刻蚀机等，目前其已成为等离子体刻蚀设备中应用最广泛的刻蚀设备，市场占比达50%以上。2023年，全球ICP刻蚀机市场销售规模约78.5亿美元，预计2024-2028年，全球ICP刻蚀机市场将以10.0%以上的年均复合增长率增长。
我国是全球电子器件制造中心，ICP刻蚀机市场需求空间广阔。得益于技术突破、需求旺盛，近年来，我国ICP刻蚀机市场发展较快，在全球市场的占比也逐年提升，2023年达32.0%左右，市场销售规模约25.1亿美元。预计2024-2028年，我国ICP刻蚀机市场增速将高于全球平均水平，届时在全球市场的占比将进一步提升。
ICP刻蚀机市场集中度较高，全球市场由东京电子（TEL）、泛林半导体（Lam Research）、Applied Materials等企业占据主导。我国ICP刻蚀机企业主要有北方华创、中微公司两家，北方华创是国内龙头企业。根据相关年报显示，截止至2023年底，北方华创ICP刻蚀设备累计出货量超3200腔。中微公司ICP刻蚀机以Primo nanova系列为主，2024年3月，中微公司ICP刻蚀机Primo nanova系列迎来第500台付运里程碑。
ICP刻蚀机为低能离子刻蚀技术，具有电场可独立控制、刻蚀速率快、刻蚀表面损伤小、等离子体密度高等优势，主要用于硅及金属材料刻蚀。近年来，ICP刻蚀机市场发展加快，其在刻蚀机总量的占比不断提升，我国是ICP刻蚀机主要消费国家之一，但在供应方面，本土企业与国际供应商相比仍存在一定差距。