掩模保护膜又称为掩模版保护膜，是由硝化纤维、含氟树脂为主要原材料制作而成得一种光学透明膜。掩模保护膜可通过框架支撑，附着在光掩模版上，起到密封、保护的作用。掩模保护膜可以保护掩膜版表面的图案不受到灰尘污染或物理损伤，还能防止化学试剂或腐蚀性气体与掩膜版表面发生化学反应。根据原料材质不同，掩模保护膜大致可分为硬掩膜保护膜、软掩膜保护膜等。
　　从产业链上游来看，掩模保护膜的原材料主要有硝化纤维树脂等、含氟树脂等。其中，硝化纤维树脂是由纤维素通过硝化反应后形成的一种聚合物，多表现为一种白色固体。硝化纤维树脂可溶于酮类、醇类、醚类等溶液中，具有耐水、耐弱碱、耐油等特性。
　　掩模保护膜主要用于保护掩模版，在半导体、电路板、平板显示、触控屏等终端领域广泛应用。掩模版是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，其精度和质量水平会直接影响最终下游产品的良率。掩模版可将设计好的芯片电路图通过曝光等工艺转移至基板或晶圆上，从而实现量产。在半导体领域中，掩模版多被用于生产芯片、传感器等；在电路板领域中，掩模版多用于生产二极管、晶体管等产品。在下游市场需求带动下，我国掩模版市场规模逐渐扩大。预计到2028年，我国掩膜版市场规模将超过350亿元。掩模保护膜作为掩模版的重要组成部分，市场需求随之增长。
　　掩膜保护膜可以降低掩膜版的清洁次数和磨损程度，在掩模版领域中发挥着十分重要的作用。随着我国半导体、平板显示等终端领域快速发展，掩模保护膜作为一种需要定期更换的消耗品，市场需求逐渐增长。目前，我国掩膜保护膜的市场规模虽然较小，但增长速度较快。2023年，我国掩模保护膜市场规模已经接近6亿元。
　 现阶段，掩膜保护膜生产技术主要被美国、日本等国外企业所垄断，我国掩膜保护膜相关技术较为落后，产品无法满足高精度的应用需求，仍主要依靠进口。但近几年，我国企业在掩膜保护膜领域进行探索性布局，不断加大研发投入，未来有望打破掩膜保护膜的技术壁垒，从而实现进口替代。