三甲基铝（TMA），化学式为Al（CH3）3，是一种有机金属化合物。三甲基铝在常温下外观呈无色透明液体，含刺激性气味，可溶于饱和脂肪烃、芳香烃以及脂环烃。三甲基铝具有易燃、易挥发、易氧化等特点，需在惰性气体环境中使用，有机合成、电子电气、医药制造等领域为其主要需求端。
   三甲基铝制备方法众多，主要包括格氏试剂法、超声波辐射法、铝还原法、金属钠还原法、烷基交换法等。铝还原法指以甲基汞以及金属铝为原材料，经直接还原反应制得成品，该法具有制备流程简单、生产效率高等优势，但极易造成环境污染；烷基交换法指将烷基铝以及倍半物相反应，进而制得成品，该法成品收率较高，但反应时间较长。目前，我国现有制备方法无法满足三甲基铝批量化生产需求，产品进口依赖度较高。
   三甲基铝主要应用于有机合成、电子电气、医药制造等领域。在有机合成领域，三甲基铝作为催化剂，可参与烯烃聚合反应、烷基化反应、氧化还原反应；在电子电气领域，其可用于原子层沉积以及化学气相沉积等半导体制造工艺中；在医药制造领域，其可用于合成抗肿瘤药物以及抗病毒药物。
   甲基铝氧烷（MAO）为三甲基铝终端产品。甲基铝氧烷是一种重要化工原材料，可用于制备茂金属催化剂。近年来，随着我国高端聚烯烃应用范围不断扩展，茂金属催化剂市场需求日益旺盛。2023年我国茂金属催化剂市场规模达到近25亿元，同比增长近8%。未来伴随下游行业快速发展，我国三甲基铝将获得广阔市场前景。
   我国已有多家企业布局三甲基铝行业生产赛道，主要包括南大光电、先导微电子、博泰电子、威顿晶磷、佳因光电材料等。目前，我国企业集中于生产电子级三甲基铝，南大光电作为龙头企业，占据市场近五成份额。
   三甲基铝作为有机金属化合物，在众多领域拥有广阔应用前景，未来伴随全球半导体产业向我国大陆转移，其电子级产品市场需求将进一步增长。但目前，受技术壁垒高等因素限制，我国三甲基铝产能较低，需求高度依赖进口。未来伴随本土企业持续发力以及技术进步，我国三甲基铝市场国产化进程有望加快。