深紫外级氟化钙晶体，是指对深紫外波长的光具有优良透过率的高纯度氟化钙晶体。
　 氟化钙（CaF2），无机化合物，不溶于水、丙酮，可溶于多种酸。氟化钙晶体为无色立方晶体状，属于等轴晶系，机械性能稳定、抗辐照能力强，是一种光学晶体材料，可透过紫外到红外波段的光，是优良光学窗口材料。
　　紫外光穿透能力差，深紫外光属于短波光，较多光学材料对其透过率差，可选择的、能够制造光学窗口的材料种类少，目前常见的主要是石英玻璃、氟化钙晶体。但在157nm以下深紫外波段范围，深紫外石英玻璃已无法满足需求，通常采用深紫外级氟化钙晶体。
　　深紫外石英玻璃、深紫外级氟化钙晶体均可应用在193nm深紫外波段。对比来看，深紫外石英玻璃透过率优，但再向更低波段延伸时，其透过率迅速下降；深紫外级氟化钙晶体在150nm深紫外波段仍拥有良好透过率，且折射率均匀性高，但双折射问题会增大。
　　深紫外级氟化钙晶体可以应用在光刻机制造领域。光刻是半导体器件制造的重要环节，需要采用光刻机。随着科技进步，光刻机光源向短波辐射方向发展，深紫外光刻成市场主流技术。深紫外级氟化钙晶体具有高激光耐久性，成为深紫外光刻机准分子激光光源首选材料。随着深紫外光刻技术不断发展，市场对深紫外级氟化钙晶体的透过率要求还在不断提高。
　　深紫外级氟化钙晶体生长工艺的优劣会直接影响内部缺陷的多少，大尺寸、高质量深紫外级氟化钙晶体生长难度大，主要工艺有温度梯度法、平板生长法、坩埚下降法等。中国科学院上海硅酸盐所采用自主研制的热交换坩埚下降法晶体生长技术，可制备得到大直径、深紫外透过率高的深紫外级氟化钙晶体。
　　深紫外级氟化钙晶体除了可以应用在光刻机领域外，也可以应用于光学仪器、激光器、天文仪器等制造方面，并且在军工国防领域还可以应用在激光武器、激光吊舱等方面。总的来看，深紫外级氟化钙晶体市场发展空间大。现阶段，我国光刻机用深紫外级氟化钙晶体需求依赖进口，在国际政治形势多变背景下，为避免被卡脖子，亟需实现进口替代。
　　2022年8月，中国建筑材料联合会发布第二批全国建材行业重大科技攻关“揭榜挂帅”项目榜单，深紫外级氟化钙晶体材料产业化制备关键技术研发与应用被列入其中，提出围绕光刻机的重大需求，研制193nmDUV光刻机照明系统、投影物镜系统等关键材料-高质量深紫外级氟化钙（CaF2）单晶。这有望推动我国深紫外级氟化钙晶体自给能力增强。