PECVD设备，全称为等离子体增强化学气相沉积设备，指利用等离子体来促进化学气相沉积过程的装置。与传统CVD设备相比，PECVD设备具有沉积速率快、可实现低温操作、适应性强、薄膜质量好等优势，在显示器制造、半导体制造以及太阳能电池等领域拥有广阔应用前景。
 PECVD设备通常由等离子体源、反应腔、真空系统、基板加热器、自动化控制系统、气体供应系统等组件构成。等离子体源通常为微波、射频电源等能量源，能够激发气体以产生等离子体；反应腔包含等离子体源以及气体分配系统，为PECVD设备核心组件；真空系统主要用于维持真空环境，通常由压力控制系统以及真空泵构成。
PECVD设备在众多领域拥有广阔应用前景，包括显示器制造、半导体制造以及太阳能电池等。在显示器制造领域，PECVD设备可用于沉积显示面板绝缘层以及透明导电氧化物薄膜（TCO）；在半导体制造领域，其可用于沉积a-Si薄膜、SiN薄膜以及SiO2薄膜等；在太阳能电池领域，其主要用于薄膜太阳能电池制造过程中。在应用需求拉动下，我国PECVD设备市场规模不断增长，2023年达到近25亿元。     在行业发展初期，受技术壁垒高、生产成本高等因素限制，我国PECVD设备高度依赖进口。全球PECVD设备市场主要集中于欧美以及日本等国家，代表企业包括日本真空技术株式会社（ULVAC JAPAN）、日本东京电子有限公司（Tokyo Electron）、瑞士梅耶博格公司（Meyer Burger）、美国应用材料公司（Applied Materials）、德国Centrotherm公司等。
经过多年发展，我国PECVD设备制造技术不断进步，其市场国产化进程进一步加快。我国PECVD设备主要生产商包括拓荆科技、盛美上海、微导纳米、京山轻机、金辰股份等。拓荆科技具备ALD设备、PECVD设备、SACVD设备及HDPCVD设备等多种薄膜沉积设备自主研发及生产实力，其推出的集成电路PECVD设备已实现产业化应用。
PECVD设备作为薄膜沉积设备市场主流产品，在众多领域拥有广阔应用前景。未来伴随半导体、光伏发电以及显示技术行业快速发展，我国PECVD设备市场需求将进一步增长。预计未来一段时间，随着本土企业持续发力以及技术成熟度提升，我国国产PECVD设备市场空间将有所扩展。