薄膜沉积设备，指在基板上沉积一层或多层薄膜材料的装置。薄膜沉积设备具有成膜均匀性好、可在较低温度下进行沉积操作、无需控制反应物流量均匀性、适用于不同形状基底等特点，在光学涂层、显示技术、半导体制造以及光伏电池等诸多领域应用广泛。
   按照工艺原理不同，薄膜沉积设备可分为原子层沉积（ALD）设备、化学气相沉积（CVD）设备、离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、次常压化学气相沉积（SACVD）设备、金属有机化学气相沉积（MOCVD）设备等多种类型。ALD设备具有反应区域温度均匀性优良、能够精确调节薄膜厚度等特点，属于高性能薄膜沉积设备。未来伴随技术进步，我国ALD设备市场占比有望提升，这将为薄膜沉积设备行业发展提供有利条件。
   薄膜沉积设备在众多领域应用广泛，包括光学涂层、显示技术、半导体制造以及光伏电池等，其中半导体制造领域为其主要需求端。近年来，随着全球半导体产业向我国大陆转移，我国晶圆产能不断扩张。2023年我国晶圆月均产能达到近660万片，同比增长近15%。薄膜沉积设备主要用于晶圆制造工艺中，可以制造晶圆表面绝缘层以及导电层等。
   受益于应用需求日益旺盛，我国薄膜沉积设备市场规模不断增长。2023年我国薄膜沉积设备市场规模达到近95亿美元，同比增长近15%。从细分产品来看，PECVD设备为我国薄膜沉积设备代表产品，市场占比达到近三成。未来随着半导体制造业发展速度加快，我国薄膜沉积设备市场空间还将进一步扩展。
     受市场前景吸引，我国已有多家企业布局薄膜沉积设备行业研发及生产赛道，主要包括拓荆科技、北方华创、微导纳米、中微公司等。目前，我国企业集中于生产中低端薄膜沉积设备，ALD设备、MOCVD设备以及SACVD设备等高端产品则依赖进口，日本及美国为我国主要进口国。
     薄膜沉积设备作为半导体制造重要设备，应用需求旺盛，行业发展前景较好。未来随着细分产品市场空间不断扩展，我国薄膜沉积设备行业发展速度将有所加快。目前，我国已有多家企业具备薄膜沉积设备量产能力，未来具备高性能产品自主研发实力的企业将占据市场更大份额。