三甲基硅烷（3MS），化学式为C3H10Si，是一种有机硅化合物。三甲基硅烷外观呈无色透明液体或无色气体，含刺鼻气味，可溶于二氯甲烷以及正庚烷等非极性溶剂，几乎不溶于水。三甲基硅烷具备强碱性、易燃性、易挥发性以及极高反应活性，在新能源、半导体工业、有机合成等领域有所应用。
   三甲基硅烷主要制备方法包括格氏试剂法、氢化铝锂还原法、缩合反应法等。缩合反应法具备反应条件温和、成品质量好、生产效率高等优势，为三甲基硅烷主流制备方法。近年来，随着本土企业及相关科研机构持续发力，环保型工艺逐渐在三甲基硅烷制备过程中获得应用。未来伴随技术进步，我国三甲基硅烷产量及质量将得到进一步提升。
   三甲基硅烷适用范围较广，主要包括新能源、半导体工业、有机合成等。半导体领域为三甲基硅烷主要需求端，其作为硅源前驱体材料，可用于半导体PECVD工艺中，能够制备碳化硅硬涂层、氧化硅介电层以及氮化硅屏障层等。未来随着全球半导体产业向我国大陆转移，三甲基硅烷应用需求将进一步增长。
   我国三甲基硅烷主要生产商包括上海正帆科技股份有限公司、浙江中宁硅业股份有限公司、湖北成丰化工有限公司、山东中天科技有限公司等。正帆科技主营业务包括向泛半导体、生物制药等，目前正在积极推进年产890吨电子先进材料及30万立方电子级混合气体项目建设，该项目拟生产的电子先进材料包括三甲基硅烷、亚磷酸三乙酯、硼酸三乙酯以及六氯乙硅烷等。
   虽然三甲基硅烷应用前景广阔，但其行业发展仍面临一定挑战。一方面，三甲基硅烷主要应用于半导体领域，对于纯度要求较高，现有技术无法满足超高纯度产品生产需求；另一方面，三甲基硅烷存在易燃性及腐蚀性，在制备及存储过程中极易造成环境污染。
   三甲基硅烷性能优异，作为一种电子材料，在半导体领域拥有广阔应用前景。未来伴随市场需求逐渐释放，我国三甲基硅烷行业发展速度将进一步加快。目前，我国三甲基硅烷行业发展仍面临一定挑战，未来伴随本土企业持续发力以及技术进步，高质量及绿色化将成为其行业发展主流趋势。