KrF光刻机，又称氟化氪光刻机，指以氟化氪（KrF）准分子激光作为曝光光源而制成的光刻机。KrF光刻机工作流程包括激光光源产生、光束整形传输、掩模投影成像以及光刻胶化学反应等，具备工艺适应性强、套刻精度高、运行成本低等特点，半导体制造领域为其主要需求端。
   近年来，国家对于高端光刻机行业发展高度重视，已出台多项相关政策。2024年9月，国家工信部发布《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，文件明确将氟化氪光刻机以及氟化氩光刻机等集成电路生产装备纳入电子专用装备目录中。未来伴随国家政策支持，我国KrF光刻机行业发展速度将有所加快。
   KrF光刻机属于深紫外光刻机（DUV）细分产品。DUV光刻机采用气体准分子激光器产生光源，具备使用寿命长、维护成本低等优势，在逻辑芯片、DRAM以及NAND Flash制备过程中应用较多。在市场需求带动下，DUV光刻机行业发展空间不断扩展。2024年全球DUV光刻机市场规模同比增长超过10%。随着DUV光刻机市场规模增长，KrF光刻机行业景气度有望提升。
    全球KrF光刻机市场主要集中于欧美以及日本等国，代表企业包括荷兰阿斯麦、日本尼康以及日本佳能三家。阿斯麦为全球KrF光刻机代表企业，同时占据我国市场较大份额。近年来，受国际形势影响，海外众多国家开始对我国出台高端光刻机出口管制政策。在此背景下，我国企业不断加大对于KrF光刻机的研发投入力度，未来其市场国产化进程有望加快。
    但目前，我国KrF光刻机行业发展仍面临诸多问题亟待解决。一方面，我国具备KrF光刻机核心零部件自主研发及生产实力的企业数量极少，需求高度依赖进口；另一方面，KrF光刻机属于高端光刻机，其研制周期较长，从实验室研发到实现量产需3-5年工艺调试。
    KrF光刻机属于高端光刻机，在半导体制造领域需求旺盛。未来伴随下游行业发展速度加快，我国KrF光刻机市场空间有望扩展。受益于国家政策支持，我国KrF光刻机行业发展态势持续向好。但目前，我国KrF光刻机行业发展仍面临一定挑战，未来本土企业亟需加大研发投入力度，以提升自身技术水平。