四甲基氢氧化铵（TMAH）又称氢氧化四甲基铵，是一种有机胺盐碱性化合物，有无色结晶体及水溶液两种形态，带有氨臭味，易溶于水和有机溶剂。
　　TMAH具有强碱性及强氧化性，在电子、光学及化学工业中发挥着重要作用。电子级TMAH主要用作显影液，应用于集成电路（IC）、液晶显示（LCD）、光电子等场景。在化学工业中，TMAH可用作溶剂、稀释剂、增稠剂等，应用在颜料、树脂、涂料等领域，以提高材料的粘度和流动性。
　　近年来，集成电路等电子行业对化学品的杂质要求越来越严苛，TMAH因其不含金属离子、高温条件下分解无残留等优势，逐渐取代KOH、NaOH等无机碱显影液，成为新一代显影液原料。
　　2024年我国湿电子化学品市场规模约250亿元，2030年有望增长至400亿元，显影液作为功能湿电子化学品之一，市场规模也将快速增长，进而将带动TMAH市场需求空间扩大。
　　碳酸盐电解法是国内TMAH主要生产工艺，该工艺主要合成原料包括三甲胺、碳酸二甲酯（DMC）等，我国三甲胺供应商包括山东华鲁恒升、鲁西化工、陕西兴化化学、安徽凌天等。此外TMAH制备方法还包括沉淀法、加成法、离子交换树脂法、离子膜电解法等。
　　TMAH技术壁垒高，全球市场主要由日本东京应化、美国三开化学、日本德山株式会社、韩国东友等国外企业占据主导。但近年来，我国企业逐渐打破了技术垄断，实现了电子级TMAH显影液国产替代，产品还外销至韩国、日本、台湾等地区。
　　我国TMAH相关企业包括杭州格林达电子材料股份有限公司（格林达）、信联电子材料科技股份有限公司、南润晶云工程技术（集团）股份有限公司等。其中格林达是国内TMAH显影液龙头，2004年自主研发了内第一套显示面板用TMAH显影液工业化生产线，目前其核心产品TMAH显影液相关技术指标已达到SEMI G5标准要求。
   TMAH在电子、光学及化学工业中发挥着重要作用，尤其在电子工业中，TMAH是新一代显影液主要原料，目前我国TMAH显影液已突破技术垄断，国产化率不断提升，随着集成电路、液晶显示等行业发展，及本土企业技术升级，TMAH市场空间将进一步扩大。