当前光刻机行业在国产替代与技术突破的双重驱动下加速整合，头部企业通过核心部件研发与产业链协同构建差异化优势。光刻机整机、光学系统、掩膜版及配套材料成为关键竞争领域，而高精度运动控制与检测技术的突破进一步缩小与国际差距。未来，随着政策支持与资本投入加大，具备全链条技术整合能力的企业将在全球半导体设备市场中占据更重要的战略地位。